据传，三星电子已在华城园区引进了首台High NA EUV设备，这是实现2纳米制程的关键设备。
该设备由ASML生产，价值约5000亿韩元（约3.5亿美元），全球仅ASML能供应。High NA EUV通过提升EUV技术，增强光线聚焦能力，对2纳米以下制程至关重要。
三星自2024年起开始评估High NA EUV的制程应用，计划用于次时代半导体生产。
全球半导体企业正加速引进此设备，如英特尔已签订6台采购合约，台积电也近期引进。业界认为，三星此举意在2纳米市场发起反攻，与台积电的竞争将更加激烈。
三星晶圆代工事业部负责人表示，尽管三星率先完成3纳米GAA制程转换，但商用化仍有不足，加速扩产2纳米制程是当前首要课题。
据传，三星计划完成设备安装后，全力推动相关生态系建设，内部也在积极调整战略方向。
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