据日本共同通信社和日经新闻报道，正在日本访问的荷兰首相Dick Schoof于4月22日参观了位于北海道千岁市的Rapidus工厂。该工厂已启动2纳米芯片试产线，Schoof在参观期间特别关注了由ASML提供的极紫外光（EUV）曝光机等关键设施。
ASML是全球唯一生产EUV曝光机的厂商，这种设备是制造2纳米AI芯片等先进制程半导体的核心工具。Rapidus引进的EUV曝光机造价超过300亿日元（约合2亿美元）。Rapidus社长小池淳义在迎接Schoof时表示，EUV曝光设备是工厂最重要的资产。
Schoof在随后的记者会上指出，减少对单一国家半导体芯片的依赖，推动Rapidus实现量产技术，不仅对日本，对荷兰和欧洲也具有重要意义。他强调，欧洲与日本必须加强合作，共同提升半导体领域的生产技术。
在此之前，Schoof于4月21日与日本首相石破茂在首相官邸举行会谈。双方讨论了半导体合作等议题，并制定了一份包含军事、经济安全、数码与科学技术等具体合作方针的移动计划。石破茂在会后表示，欢迎众多日本企业进驻荷兰，并称两国在半导体领域的合作正在稳步推进。